江苏微导纳米科技股份有限公司

产品技术

半导体

集成电路

iTomic® HiK系列原子层沉积系统

iTronix®系列化学气相沉积系统

iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统

iTomic® PE系列等离子体增强原子层沉积系统

iMagtron SC系列高离化磁控溅射系统

先进封装

iTronix®系列化学气相沉积系统

iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统

iTomic® PE系列等离子体增强原子层沉积系统

iMagtron SC系列高离化磁控溅射系统

MEMS

iTomic® HiK系列原子层沉积系统

iTronix®系列化学气相沉积系统

iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统

iTomic® Lite系列轻型原子层沉积系统

硅基微显示

iTronix®系列化学气相沉积系统

iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统

泛半导体

iTomic® HiK系列原子层沉积系统

iTronix®系列化学气相沉积系统

iTomic® MW系列批量式原子层沉积系统

iTomic® Lite系列轻型原子层沉积系统

其他

Trancendor®晶圆真空传输系统

光伏

硼扩散

羲和®系列高温低压系统

退火

羲和®系列高温低压系统

隧穿氧化/多晶硅沉积

祝融系列ZR5000×2管式PECVD ToxPoly All-in-one 系统

祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系统

祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系统

正膜Al₂O₃/SiNₓ

祝融系列ZR5000×2管式PEALD/PECVD集成系统

祝融系列ZR5000×3管式PEALD/PECVD集成系统

正膜Al₂O₃

夸父®系列KF20000批量式ALD系统

背膜SiNₓ

祝融系列ZR5000×1管式PECVD系统

阻隔封装

电子传输层 SnOₓ

界面层/封装层 AIOₓ

产业化应用中心

iOptomic 系列原子层沉积系统

iTomic® PE系列等离子体增强原子层沉积系统

后羿®系列板式ALD系统

iSparol系列卷对卷ALD系统

iTomic® MW Lite批量轻型系列原子层沉积系统

先进封装

iMagtron SC系列高离化磁控溅射系统

iMagtron BK直流磁控溅射系统，适用于AL Pad 的黏附层、阻挡层、MIM 电容器电极层、硬掩模(HardMask)等薄膜工艺的需求;iMagtron BK系列设备凭借薄膜厚的均匀性、粘附性、导电性可为逻辑芯片、存储芯片等关键工艺解决方案，技术和设备指标达到国内一流、国际先进水平。

销售邮箱

semisale@leadmicro.com

产品特点

12英寸单片PVD量产设备

采用直流磁控溅射沉积系统，可满足优异的薄膜均匀性和重复性，适用于Al互连、Hardmask等工艺

薄膜材料:Ti、TiN、TTN等工艺