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产品技术
MEMS
iTronix®系列化学气相沉积镀膜系统
iTronix®系列化学气相沉积(CVD)镀膜系统采用自主研发的反应腔室和电气软件集成化服务,在逻辑、存储、先进封装、显示器件等芯片制造领域具有广泛应用,可满足多种功能性薄膜沉积工艺的开发和应用需求。搭载新型平台可安装更多反应腔以满足高产能需求。
销售邮箱
semisale@leadmicro.com
产品特点
高精度压力调节控制技术,提高薄膜阶梯覆盖率
1
可以控制膜的成份和结构,满足多元掺杂工艺需求
2
自主研发高精度制程边缘控制技术,减少晶圆去边,提高晶圆利用率
3
带ESC多区加热陶瓷盘,可以实现高温工艺,减少背面沉积,避免等离子体损伤
4
自主设计的多区域吹扫功能,减少颗粒污染,延长清洗周期
5
多区域温度控制设计,温度控制精度高,薄膜均匀性好
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